説明
Epilシステムデュアル用200W808nmレーザースタック
特徴：
ドイツのダイオードレーザーバー
金錫溶接、安定性と信頼性が高くなっています。
完全密閉型窒素処理は、環境への適応性が高いです。
マクロチャネル冷却構造、水冷は簡単です。
100W / barの高エネルギー密度、形状変更が容易。
カスタマイズされた機械部品サイズ
データシート
商品番号：WC808VS200
| オプティカル | 標準値 |
| 中心波長 | 808nm |
| 波長許容差 | ±15nm |
| 作業モード | QCW |
| 出力電力 | 200W |
| バーあたりの電力 | 100W/バー |
| バーの数 | 2 |
| 高速軸発散（FWHM） | 38度 |
| 遅軸発散（FWHM） | 12度 |
| パルス幅 | 400ms以下 |
| デューティサイクル | 40パーセント以下 |
| 電気 | |
| 動作電流 | 100A |
| しきい値電流 | 20A |
| 動作電圧 | 4V |
| 熱の | |
| 作動温度 | 20〜30度 |
| 保管温度 | 0-55度 |
| クーラント | 蒸留水 |
| 流量/バー | 4〜6L/分 |
| 最大入口圧力 | 350〜500kPa |
| 水温（凝縮なし） | 23〜27度 |
| ろ過された水粒子 | <20μm> |
パッケージ図
注：半導体レーザーチップは、100Aの最大電流に耐えます。 この電流は、レーザーの耐用年数を直接短縮します。 レーザーの急速時効実験でのみ使用されます。 お客様の使用はお勧めしません。 その結果、レーザーの寿命が短くなったり、焼損したりしますが、品質保証の範囲外です。
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